上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 40

KRi 射频离子源 RFICP 40
上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸小, 离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用的栅技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以过 120 mA.

射频离子源 RFICP 40 特性:
1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间长.
2. 离子源结构模块化设计, 使用简单; 基座可调节, 优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 离子源自动调节技术栅的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅材质钼和石墨,坚固
6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性

KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:

KRi 射频离子源典型应用：
预清洗 PC
表面改性
辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE


KRi 射频离子源 RFICP 40 客户案例：
安装于 e-beam 电子束蒸发系统, 进行 IBAD 辅助镀膜 (玻璃上镀反射涂层).


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.