上海伯东代理美国原装进口KRI考夫曼离子源 KDC 10:考夫曼型离子源 Gridded系列小型号的离子源.适用于集成在小型的真空设备中,例如预清洗,离子溅射,离子蚀刻.在<1000eV低能量,通Ar氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤,宽束设计,低成本等优点广泛应用在显微镜领域,标准配置下KDC 10离子能量范围100至1200ev,离子电流可以过10mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数:
型号 | KDC 10 |
供电 | DC magnetic confinement |
-阴灯丝 | 1 |
-阳电压 | 0-100V DC |
-栅直径 | 1cm |
中和器 | 灯丝 |
电源控制 | KSC 1202 |
配置 | - |
-阴中和器 | Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
-架构 | 移动或快速法兰 |
-高度 | 4.5' |
-直径 | 1.52' |
-离子束 | 集中 |
平行 | |
散设 | |
-加工材料 | 金属 |
电介质 | |
半导体 | |
-工艺气体 | 惰性 |
活性 | |
混合 | |
-安装距离 | 2-12” |
-自动控制 | 控制4种气体 |
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域:
离子清洗,显微镜抛光IBP
溅镀和蒸发镀膜PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性,激活SM
离子溅射沉积和多层结构IBSD
离子蚀刻IBE
1978年Dr. Kaufman博士在美国创立Kaufman & Robinson, Inc公司,研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源.美国考夫曼离子源历经 40年改良及发展已多项. KRi离子源广泛用于离子清洗PC,离子蚀刻IBE,辅助镀膜IBAD,离子溅射镀膜IBSD领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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